HH-1 毛细管柱分析氢气中氯化氢含量
简单介绍
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HH-1 毛细管柱分析氢气中氯化氢含量的详细介绍
毛细管柱分析氢气中氯化氢含量
毛细管柱分析氢气中氯化氢含量 详细信息:


半导体材料(尤其是集成电路工业)是电子信息产业的基础和核心,是国民经济现代化与信息化建设的先导与支柱产业.半导体硅单晶材料则是半导体工业的重要的主体功能材料,多晶硅是生产单晶硅的直接原料,是当代人工智能、自动控制、信息处理、光电转换等半导体器件的电子信息基础材料,是为重要的优良半导体材料,回收氢气作为多晶硅生产的重要原料还原剂和载流气体,回收氢气的品质直接影响着多晶硅的品质. 多晶硅的生产技术主要为改良西门子法和硅烷法.西门子法通过气相沉积的方式生产柱状多晶硅,为了提高原料利用率和环境友好,在前者的基础上采用了闭环式生产工艺即改良西门子法.它是由德国Siemens公司发明并于1954年申请了1965年左右实现了工业化.经过几十年的应用和发展,西门子法不断完善,先后出现了代、第二代和第三代,第三代多晶硅生产工艺即改良西门子法,它在第二代的基础上增加了还原尾气干法回收系统、SiCl4回收氢化工艺,实现了完全闭环生产,是西门子法生产高纯多晶硅技术的新技术.硅在西门子法多晶硅生产流程内部的循环利用. 干法回收氢中的总碳,氧气,氮气等,氧与硅的亲和力很强,在高温工作条件下易氧化生成二氧化硅,在多晶硅生产过程中产生加层现象;总碳会造成多晶硅成品中碳含量升高,所以回收氢气的品质控制有重要意义.干法回收系统回收的氢气中氯化氢含量高,则在多晶硅生产过程的前期出现倒炉现象,后期可能出现磷超标的现象,严重影响多晶硅的品质;氯化氢的存在,若遇到水分会造成管道腐蚀,降低设备寿命,对回收氢气中氯化氢含量的有效控制,对于提高多晶硅品质、节约生产成本,目前多晶硅行业中尚无统一标准的检测方法.目前测定氯化氢的方法有离子色谱法,分光光度法,红外光谱法,采用离子色谱法时需将氯化氢转化为氯离子进行检测,操作过程繁琐,耗气量大耗时长等缺点;采用分光光度法,操作繁琐,误差大,稳定时间长等;傅里叶红外光谱法分析方法,回收氢气中的其他气体干扰其测定.基于以上原因所建立回收氢气中氯化氢含量的测定气相色谱法,对多晶硅生成管控产生重要意义.
毛细管柱分析氢气中氯化氢含量 详细信息:
固定相:甲基聚硅氧烷
型号:HH-1
规格:30m*0.53mm*1.5um
毛细管柱分析氢气中氯化氢含量 谱图:

半导体材料(尤其是集成电路工业)是电子信息产业的基础和核心,是国民经济现代化与信息化建设的先导与支柱产业.半导体硅单晶材料则是半导体工业的重要的主体功能材料,多晶硅是生产单晶硅的直接原料,是当代人工智能、自动控制、信息处理、光电转换等半导体器件的电子信息基础材料,是为重要的优良半导体材料,回收氢气作为多晶硅生产的重要原料还原剂和载流气体,回收氢气的品质直接影响着多晶硅的品质. 多晶硅的生产技术主要为改良西门子法和硅烷法.西门子法通过气相沉积的方式生产柱状多晶硅,为了提高原料利用率和环境友好,在前者的基础上采用了闭环式生产工艺即改良西门子法.它是由德国Siemens公司发明并于1954年申请了1965年左右实现了工业化.经过几十年的应用和发展,西门子法不断完善,先后出现了代、第二代和第三代,第三代多晶硅生产工艺即改良西门子法,它在第二代的基础上增加了还原尾气干法回收系统、SiCl4回收氢化工艺,实现了完全闭环生产,是西门子法生产高纯多晶硅技术的新技术.硅在西门子法多晶硅生产流程内部的循环利用. 干法回收氢中的总碳,氧气,氮气等,氧与硅的亲和力很强,在高温工作条件下易氧化生成二氧化硅,在多晶硅生产过程中产生加层现象;总碳会造成多晶硅成品中碳含量升高,所以回收氢气的品质控制有重要意义.干法回收系统回收的氢气中氯化氢含量高,则在多晶硅生产过程的前期出现倒炉现象,后期可能出现磷超标的现象,严重影响多晶硅的品质;氯化氢的存在,若遇到水分会造成管道腐蚀,降低设备寿命,对回收氢气中氯化氢含量的有效控制,对于提高多晶硅品质、节约生产成本,目前多晶硅行业中尚无统一标准的检测方法.目前测定氯化氢的方法有离子色谱法,分光光度法,红外光谱法,采用离子色谱法时需将氯化氢转化为氯离子进行检测,操作过程繁琐,耗气量大耗时长等缺点;采用分光光度法,操作繁琐,误差大,稳定时间长等;傅里叶红外光谱法分析方法,回收氢气中的其他气体干扰其测定.基于以上原因所建立回收氢气中氯化氢含量的测定气相色谱法,对多晶硅生成管控产生重要意义.
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